Nélkülük nem lenne MI-robbanás
A legmodernebb félvezetők gyártásához elengedhetetlenek a litográfiai gépek, amelyek ultrafinom mintákat égetnek a szilíciumlapkákra. Az ASML által fejlesztett EUV-technológia az egyik legfontosabb hajtóereje az MI-alapú innovációknak az elkövetkező évtizedben. A gyártók, mint például a TSMC, az Intel és a Samsung, ezeket az EUV-gépeket használják, hogy tömeggyártásban készíthessék az olyan chipeket, mint az Nvidia Blackwell.
A jelenlegi MI-chipgenerációt a „low-NA” EUV-gépek szolgálják ki, de az igazán forradalmi áttörés a „high-NA” típusú berendezésekkel várható. Ezek már fejlesztés alatt állnak, és várhatóan az Intel vezeti be őket elsőként a nagy volumenű gyártásban 2027–2028-ban.
Felzárkózni szinte lehetetlen
A versenytársak, mint a japán Nikon vagy Canon, csak elavultabb gyártási technológiákhoz szállítanak litográfiai eszközöket. Az ASML három évtizedes előnye szinte behozhatatlan, mivel ezek a nagyvállalatok a fejlesztésre a töredékét sem fordították annak, mint amennyit a holland cég.
Az ASML megrendelésállományában az EUV-gépek adják a bevétel többségét: 2025 utolsó negyedévében 7,4 milliárd eurót (3,1 billió forint) termeltek. Egész évben összesen 48 EUV-rendszert értékesítettek, amelyekből 11,6 milliárd euró (4,85 billió forint) bevétel származott. A vállalat 2026-ban további, rekordszintű forgalmat vár, akár 39 milliárd eurós (16,3 billió forintos) árbevétellel számol.
Tovább tarol az ASML
Az MI fejlődése egyre fejlettebb chipeket követel, ami állandó keresletet biztosít az ASML számára. A vállalat értéke robbanásszerűen nő, és már a harmadik európai cég, amely elérte az ezermilliárd eurós álomhatárt – ráadásul a versenytársaknak gyakorlatilag esélyük sincs behozni a lemaradást. Ha MI-ről van szó, nélkülözhetetlen az ASML, és úgy tűnik, ez a fölény még jó darabig megmarad.
