Új anyagok, miniatűr méretek
Hagyományosan a mikrochipek gyártásánál szilíciumlapokat vonnak be sugárzásérzékeny réteggel – ezt hívják „rezisztnek” –, amelyre lézersugárral mintákat égetnek. Ha azonban az áramkörök méretét még tovább akarják csökkenteni, a hagyományos rezi sztek már nem elég hatékonyak a nagy energiájú sugárzással szemben. Erre talált megoldást ez a nemzetközi kutatócsoport: olyan fém-organikus vegyület alapú rezisztet fejlesztettek ki, amely bírja a „B-EUV” (extrém ultraibolya sugárzás feletti, Beyond Extreme Ultraviolet) eljárást. Az olyan fémek, mint a cink, képesek a B-EUV fény elnyelésére, és elektronokat generálnak, amelyek szükségesek az áramköri minták létrehozásához.
Pontos és költséghatékony gyártás
Az új eljárás neve „kémiai oldatos lerakódás” (chemical liquid deposition, CLD), amellyel nanométeres pontossággal lehet szabályozni a reziszt réteg vastagságát a szilíciumlapon. A kutatók különböző fémek és imidazolok kombinációit tesztelik, hogy megtalálják a legjobb párosításokat a következő tíz év csúcstechnológiás gyártásához. A cink például az eddigi technológiákban nem teljesített jól, de a B-EUV technológiához az egyik leghatékonyabb.
Korlátlan lehetőségek előtt
A kutatók becslése szerint legalább tíz különböző fém és több száz szerves molekula kombinációja jöhet szóba, ami óriási fejlesztési lehetőséget adhat az iparnak. Ez a módszer nemcsak olcsóbb és gyorsabb gyártást tesz lehetővé, hanem elindíthatja azokat a technológiai ugrásokat is, amelyeket eddig csak elképzelni tudtunk. A mesterséges intelligencia algoritmusok és a mindenütt jelenlévő csipek forradalmi fordulatát jelentheti ez a felfedezés.
